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代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測(cè)厚儀、相位差膜設(shè)備等）、USHIO牛尾點(diǎn)光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測(cè)器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺(tái)階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機(jī)、NEWKON新光、TOKISANGYO東機(jī)產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計(jì)裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機(jī)、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽(yáng)電機(jī)、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.
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頭部集成了薄膜厚度測(cè)量所需功能 通過顯微光譜法測(cè)量高精度**反射率（多層膜厚度，光學(xué)常數(shù)） 1點(diǎn)1秒高速測(cè)量 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外至近紅外） 區(qū)域傳感器的**機(jī)制 OPTM顯微分光膜厚儀 OPTM顯微分光膜厚儀_Otsuka大塚_OPTM-A2OPTM顯微分光膜厚儀_Otsuka大塚_OPTM-A2
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頭部集成了薄膜厚度測(cè)量所需功能 通過顯微光譜法測(cè)量高精度**反射率（多層膜厚度，光學(xué)常數(shù)） 1點(diǎn)1秒高速測(cè)量 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外至近紅外） 區(qū)域傳感器的**機(jī)制 易于分析向?qū)?，初學(xué)者也能夠進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析 獨(dú)立測(cè)量頭對(duì)應(yīng)各種inline客制化需求 支持各種自定義 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚
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ZETA電位_Otsuka大塚分子粒徑量測(cè)系統(tǒng)ELSZ-2000 ELSZ-2000 ELSZ-2000ZETA電位_Otsuka大塚分子粒徑量測(cè)系統(tǒng)ELSZ-2000 此設(shè)備可測(cè)量濃度低的溶液～濃度高的溶液的ZETA電位?粒徑及分子量。 粒徑測(cè)量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.00001%～40%）。實(shí)測(cè)電氣滲透流，高精度的ZETA電位測(cè)量，*小容量是130μL～的一次性cell。 另，在0～90℃的大的溫度范圍內(nèi)，測(cè)量自動(dòng)溫度的梯度空間，分析変性?相轉(zhuǎn)移溫度
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ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測(cè)系統(tǒng)ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測(cè)系統(tǒng)ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測(cè)系統(tǒng) 此設(shè)備可測(cè)量濃度低的溶液～濃度高的溶液的ZETA電位?粒徑及分子量。 粒徑測(cè)量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.00001%～40%）。實(shí)測(cè)電氣滲透流，高精度的ZETA電位測(cè)量，*小容量是130μL～的一次性cell
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ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000Z分子粒徑量測(cè)系統(tǒng)ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000Z分子粒徑量測(cè)系統(tǒng)ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000Z分子粒徑量測(cè)系統(tǒng) 此設(shè)備可測(cè)量濃度低的溶液～濃度高的溶液的ZETA電位?粒徑及分子量。 粒徑測(cè)量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.00001%～40%）。實(shí)測(cè)電氣滲透流，高精度的ZETA電位測(cè)量，*小容量是130μL～的一次性cell
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Otsuka大塚|大冢高靈敏度示差折光儀DRM-3000Otsuka大塚|大冢高靈敏度示差折光儀DRM-3000Otsuka大塚|大冢高靈敏度示差折光儀DRM-3000
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Otsuka大塚內(nèi)置膜厚監(jiān)測(cè)儀Otsuka大塚內(nèi)置膜厚監(jiān)測(cè)儀Otsuka大塚內(nèi)置膜厚監(jiān)測(cè)儀
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Otsuka大塚膜厚計(jì)FE-300薄膜類型Otsuka大塚膜厚計(jì)FE-300薄膜類型Otsuka大塚膜厚計(jì)FE-300薄膜類型
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Otsuka大塚膜厚計(jì)FE-300標(biāo)準(zhǔn)型Otsuka大塚膜厚計(jì)FE-300標(biāo)準(zhǔn)型Otsuka大塚膜厚計(jì)FE-300標(biāo)準(zhǔn)型
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頭部集成了薄膜厚度測(cè)量所需功能 通過顯微光譜法測(cè)量高精度**反射率（多層OPTM顯微分光膜厚儀OPTM-A3Otsuka大塚膜厚度，光學(xué)常數(shù)） 1點(diǎn)1秒高速測(cè)量 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外至近紅外） 區(qū)域傳感器的**機(jī)制 易于分析向?qū)?，初學(xué)者也能夠進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析 獨(dú)立測(cè)量頭對(duì)應(yīng)各種inline客制化需求 支持各種自定義 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Ots
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晶圓在線測(cè)厚系統(tǒng)GS-300Otsuka大塚晶圓在線測(cè)厚系統(tǒng)GS-300Otsuka大塚晶圓在線測(cè)厚系統(tǒng)GS-300Otsuka大塚
