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產(chǎn)品中心

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產(chǎn)品詳情

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產(chǎn)品名稱：OTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLA
產(chǎn)品型號：nanoSAQLA
產(chǎn)品廠商：OTSUKA大塚電子
產(chǎn)品價格：0
折扣價格：0
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簡單介紹：

nanoSAQLA OTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLA

詳情介紹：

nanoSAQLA

OTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)

nanoSAQLA是由動態(tài)光散射法（DLS法）的粒子直徑測量（粒子徑0.6nm～10μm）裝置。

還搭載了各種各樣追求品質(zhì)管理的需求的功能。

在稀薄～濃厚系為止在廣濃度范圍內(nèi)實現(xiàn)了多檢體測量對應的新光學系，用拉布必須的輕量·小型化，標準1分的高速測量。

另外，不受非浸染型的調(diào)諧器的影響，沒有自動取景器的“5檢體連續(xù)測量”的標準裝備了新產(chǎn)品。

OTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLA

特長：

1臺簡單地5檢體連續(xù)測量

從稀薄到濃厚的關(guān)系

標準測量時間1分的高速測量

搭載簡單測量功能（一個點擊可以開始測量）

非浸泡型的單元格塊內(nèi)沒有分注的轉(zhuǎn)換器

搭載溫度凹陷功能

測定範囲（理論値）

粒子徑 0.6nm～10μm
濃度範囲 0.00001～40％
溫度範囲 0～90℃*

仕　様

型式	多検體ナノ粒子徑測定システム
測定原理	動的光散亂法
光源	高出力半導體レーザー ^*1
検出器	高感度APD
連続測定	5検體
測定範囲	0.6nm ～ 10μm
対応濃度	0.00001 ～ 40% ^*2
溫度	0 ～ 90℃ （溫度グラジエント機能あり） ^*3
規(guī)格	ISO 22412：2017 準拠 JIS Z 8828：2013 準拠 JIS Z 8826：2005 準拠
サイズ	W240 X D480 X H375 mm
重量	約18 kg
ソフトウェア	平均粒子徑解析（キュムラント法解析）
	粒度分布解析（Marquardt法/NNLS/Contin法/Unimodal法）
	粒度分布重ね書き
	逆相関関數(shù)?殘差プロット
	粒子徑モニター
	粒子徑表示範囲（0.1 ～ 10⁶ nm）
	分子量計算機能

*1 本裝置はレーザーに関する**基準（JIS C6802）のクラス1に區(qū)分される製品です。
*2 Latex120nm：0.00001 ～ 10％、タウロコール酸：～40%
*3 標準ガラスセルでのバッチ測定の場合。
ディスポセルや連続測定時は 15 ～ 40℃ （溫度グラジエント非対応）