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UCU-LF150SL155-M7-M7 晶圓切割膠帶**用UV裝置 UNILAM優(yōu)尼光UCU-LF150SL155-M7-M7 晶圓切割膠帶**用UV裝置 UNILAM優(yōu)尼光v
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蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置
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蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光&照射裝置 特征：可以調(diào)整UV均勻度和照射距離而且適用冷卻既能可保持常溫。 應(yīng)用范圍：液晶及光培養(yǎng)物質(zhì)實(shí)驗(yàn)用，高分子膜散射曝光用（線幅30μm級以上） 蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光&照射裝置
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特征：可以調(diào)整UV均勻度和照射距離而且適用冷卻既能可保持常溫。 應(yīng)用范圍：液晶及光培養(yǎng)物質(zhì)實(shí)驗(yàn)用，高分子膜散射曝光用（線幅30μm級以上）蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置
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蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 LTPS LCD用掃描**曝光系統(tǒng)蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 LTPS LCD用掃描**曝光系統(tǒng)
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特征：帶有高功率UV照度和優(yōu)良的均勻度的6時代mobileLCD用掃描曝光機(jī) 適用中壓UV還有把光掩膜和吸附曝光薄膜的狀態(tài)下通過掃描散射曝光確保高品質(zhì)的反轉(zhuǎn)曝光特性。 蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 光掩膜用掃描UV反轉(zhuǎn)曝光系統(tǒng)蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 光掩膜用掃描UV反轉(zhuǎn)曝光系統(tǒng)
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特征：寬度1400mm以上的薄膜上做奈米壓印或以微細(xì)金型成型模具后，通過UV假固化及UV本固化還有確保高生產(chǎn)效益和高均勻度（正負(fù)5%一下），適用在高品質(zhì)顯示光學(xué)薄膜及所屬領(lǐng)域制造。有除去氮?dú)猓∟2）的技能。 顯示器用薄膜(透鏡膜、棱鏡膜。曝光膜）&再歸反射薄膜的UV照射或UV固化 蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示光學(xué)薄膜 & 再歸反射用UV固化裝置 蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示光學(xué)薄膜 & 再歸反射用UV固化裝置
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為的強(qiáng)化LCD BLU薄膜用的棱鏡、微tou鏡膜的信賴性。高生產(chǎn)性及高UV均勻度可以適用在光譜1400mm以上的PET薄膜 高品質(zhì)的顯示薄膜（透鏡膜、棱鏡膜），PET&TAC薄膜，ITO薄膜的背涂層，硬質(zhì)涂層，防眩光涂層。蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示薄膜背涂層用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示薄膜背涂層用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 顯示薄膜背涂層用UV固化裝置
