熱門搜索：
代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設備等）、USHIO牛尾點光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機、NEWKON新光、TOKISANGYO東機產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.
產(chǎn)品中心
-
CEDAR思達
-
Stucchi思多奇
-
NITTO KOHKI日...
-
Sankei
-
KYOWA協(xié)和工業(yè)
- DIT東日技研
- AITEC艾泰克
-
SIGMAKOKI西格瑪...
- REVOX萊寶克斯
- CCS 希希愛視
- SIMCO思美高
- POLARI0N普拉瑞
- HOKUYO北陽電機
- SSD西西蒂
- EMIC 愛美克
- TOFCO東富科
-
打印機
- HORIBA崛場
- OTSUKA大冢電子
- MITAKA三鷹
- EYE巖崎
- KOSAKA小坂
-
SAGADEN嵯峨電機
- TOKYO KEISO東...
- takikawa 日本瀧...
- Yamato雅馬拓
- sanko三高
- SEN特殊光源
-
SENSEZ 靜雄傳感器
- marktec碼科泰克
- KYOWA共和
- FUJICON富士
- SANKO山高
-
Sugiyama杉山電機
-
Osakavacuum大...
-
YAMARI 山里三洋
- ACE大流量計
- KEM京都電子
- imao今尾
- AND艾安得
- EYELA東京理化
- ANRITSU安立計器
- JIKCO 吉高
- NiKon 尼康
- DNK科研
- Nordson諾信
- PISCO匹斯克
- NS精密科學
- NDK 日本電色
-
山里YAMARI
- SND日新
-
Otsuka大塚電子
- kotohira琴平工業(yè)
- YAMABISHI山菱
- OMRON歐姆龍
- SAKURAI櫻井
- UNILAM優(yōu)尼光
- ONO SOKKI小野測...
-
U-Technology...
- ITON伊藤
- chuhatsu中央發(fā)明...
- TOADKK東亞
- HOYA豪雅
- COSMOS日本新宇宙
-
UENO上野精機
- DSK電通產(chǎn)業(yè)
-
POLARION普拉瑞
- LUCEO魯機歐
- ThreeBond三鍵
-
HAMAMASTU濱松
-
TML東京測器
- SHINAGAWA SO...
- IMV愛睦威
- custom 東洋計量
- yuasa 尤阿薩
- HAYASHI林時計
- SIBATA柴田科學
- SEN日森特殊光源
-
HSK 平原精機
-
SOMA相馬光學
- iwata巖田
- MUSASHI武藏
- USHIO牛尾
- ACTUNI阿庫圖
- ORC歐阿希
- DRY-CABI德瑞卡比
- COSMO科斯莫
-
SHOWASOKKI昭和...
-
CHUBUSEKI中部精...
-
SAMCO薩姆肯
- navitar 納維塔
- ASKER 高分子計器
- KOSAKA Labor...
- EMIC愛美克
-
OPTEX奧泰斯
- NISSIN日進電子
- TANDD 蒂和日
- FUJI TERMINA...
- TAKASAGO高砂
- TAKIKAWA瀧川
- SUGAWARA菅原
- MACOME碼控美
-
FURUKAWA古河
-
TSUBOSAKA壺坂
- mitutoyo 三豐
- HAYASHI 林時計
- HOZAN 寶山
- FEI SEM電子顕微鏡
- YUASA尤阿薩
- SAKAGUCHI坂口電...
-
MDCOM 株式會社
-
inflidge 英富麗
- RKC 理化工業(yè)
- MORITEX茉麗特
- LIGHTING 光屋L...
- TEITSU帝通
- Excel聽音機
- SERIC索萊克
-
FUJI富士化學
-
TONCON拓豐
-
SHINKO新光電子
- Ono Sokki 小...
- 樂彩
- IIJIMA 飯島電子
- THOMAS托馬斯
- JIKCO吉高
- 分散材料研究所
-
NAVITAR納維塔
- Cho-Onpa 超音波...
- revox 萊寶克斯
- Toki Sangyo ...
- SUPERTOOL世霸
- EIWA榮和
- FUJITERMINAL...
- TOYOX東洋克斯
- AMAYA天谷制作所
-
TSUBAKI NAKA...
- TOPCON 拓普康
- NIKKATO日陶
- ITOH伊藤
- NEWKON新光
- SIBATA柴田
-
TAISEI
-
MITSUI三井電氣
-
加熱器
熱門品牌展示
產(chǎn)品展示
-
利用獨自的高速描畫「Point Array方式」技術直接描畫圖形的裝置。 主要特長 能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。 能夠?qū)雽w、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。 由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應時間。 此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應的裝置構(gòu)造。
-
利用獨自的高速描畫「Point Array方式」技術直接描畫圖形的裝置。 主要特長 能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。 能夠?qū)雽w、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。 由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應時間。 此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應的裝置構(gòu)造。
-
利用獨自的高速描畫「Point Array方式」技術直接描畫圖形的裝置。 主要特長 能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。 能夠?qū)雽w、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。 由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應時間。 此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應的裝置構(gòu)造。
-
主要特長 直立配置掩膜臺/基板臺。不需補正由掩膜/掩膜臺/基板臺的自身重量而造成的彎曲變形,構(gòu)造簡單，安定性高。 采用新型光學系統(tǒng),使影響圖形轉(zhuǎn)印精度的傾斜角降低至過去的一半以下(與本公司裝置相比),可實現(xiàn)更高精度的圖形轉(zhuǎn)印。 完全分離本體與光源部。光源的熱量傳遞不到本體,改善了本體部的熱量分布水準。 為了防止因掩膜及玻璃基板的溫度差造成的伸縮變形,可選擇基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)。
-
主要特長 直立配置掩膜臺/基板臺。不需補正由掩膜/掩膜臺/基板臺的自身重量而造成的彎曲變形,構(gòu)造簡單，安定性高。 采用新型光學系統(tǒng),使影響圖形轉(zhuǎn)印精度的傾斜角降低至過去的一半以下(與本公司裝置相比),可實現(xiàn)更高精度的圖形轉(zhuǎn)印。 完全分離本體與光源部。光源的熱量傳遞不到本體,改善了本體部的熱量分布水準。 為了防止因掩膜及玻璃基板的溫度差造成的伸縮變形,可選擇基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)。
-
主要特長 直立配置掩膜臺/基板臺。不需補正由掩膜/掩膜臺/基板臺的自身重量而造成的彎曲變形,構(gòu)造簡單，安定性高。 采用新型光學系統(tǒng),使影響圖形轉(zhuǎn)印精度的傾斜角降低至過去的一半以下(與本公司裝置相比),可實現(xiàn)更高精度的圖形轉(zhuǎn)印。 完全分離本體與光源部。光源的熱量傳遞不到本體,改善了本體部的熱量分布水準。 為了防止因掩膜及玻璃基板的溫度差造成的伸縮變形,可選擇基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)。(選購項) *大基板尺寸為1,200mm×1,400mm。通過獨自的光學系統(tǒng)實現(xiàn)了均勻的一次性曝光。 能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫
-
主要特長 能夠進行節(jié)拍時間約20秒(標準規(guī)格機，對位容許值設定為0.5μm時。不含曝光時間。)的高速曝光處理。 利用直讀式間隙傳感器與獨自的控制系統(tǒng),能夠高速度和高精度地設定掩膜與基板間的近接間隙 。 可配置嚴格控制處理部位溫度環(huán)境的溫控機房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺溫度調(diào)控系統(tǒng)。 可選擇配置基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)，以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(
-
主要特長 能夠進行節(jié)拍時間約20秒(標準規(guī)格機，對位容許值設定為0.5μm時。不含曝光時間。)的高速曝光處理。 利用直讀式間隙傳感器與獨自的控制系統(tǒng),能夠高速度和高精度地設定掩膜與基板間的近接間隙 。 可配置嚴格控制處理部位溫度環(huán)境的溫控機房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺溫度調(diào)控系統(tǒng)。 可選擇配置基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)，以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(
-
主要特長 能夠進行節(jié)拍時間約20秒(標準規(guī)格機，對位容許值設定為0.5μm時。不含曝光時間。)的高速曝光處理。 利用直讀式間隙傳感器與獨自的控制系統(tǒng),能夠高速度和高精度地設定掩膜與基板間的近接間隙 。 可配置嚴格控制處理部位溫度環(huán)境的溫控機房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺溫度調(diào)控系統(tǒng)。 可選擇配置基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)，以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(選購項) 能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫
-
非常適用于實驗?研發(fā)之用途。 緊湊型設計(600×600mm)，可在桌面上安裝使用。 搭載UV LED爆光燈房標準（有效曝光范圍φ4″）。 接觸式曝光模式（可支持其他的曝光模式，為選購項）。 完全手動操作，價格公道合理。
-
主要特長 除近接曝光外，還可對應接觸曝光(軟接觸和硬接觸) 可對應幅度為500mm以上的大型膠片。 采用獨自的光學系統(tǒng),可選擇單面曝光或雙面曝光。還能進行一燈式雙面曝光。 裝載有自動對位功能。通過特殊照明實現(xiàn)透明材料的對位。 除Roll to Roll外可設計枚葉式搬送等機構(gòu),根據(jù)客戶的需要構(gòu)成裝置。 可選擇基板臺溫度控制及掩膜冷卻規(guī)格等。(選購項)
-
主要特長 采用獨自的鏡面?鏡頭光學系統(tǒng),實現(xiàn)**均勻的照射。 配備有可設定非接觸?面內(nèi)均一間隙的間隙傳感器和對應多層曝光的顯微鏡、X?Y?θ軸對位臺的對位系統(tǒng)。 采用Moving UV mask法(使用Piezo Positioning Stage,使掩膜在曝光中微細移動)能夠控制厚膜光刻膠的側(cè)壁傾斜角度,形成三維微細構(gòu)造體。
-
產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置 簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。 主要特長 對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)。 可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。 對應*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學系統(tǒng)。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等
-
主要特長 能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。 能夠?qū)雽w、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。 由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應時間。 此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應的裝置構(gòu)造。
-
主要特長 能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。 能夠?qū)雽w、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。 由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應時間。 此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應的裝置構(gòu)造。
-
主要特長 搭載本公司開創(chuàng)的鏡面光學系統(tǒng)爆光燈房（LAMP HOUSE）。從而實現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。 采用本公司開創(chuàng)的同軸對位方式和高速圖像處理技術, 從而實現(xiàn)了高精度對位。還支持IR方式和背面方式。 通過本公司開創(chuàng)的光學式間隙傳感器，可在非接觸狀態(tài)下高速、精的設定掩膜和基板間的近接間隙。 搭載有掩膜更換機。*多可自動更換20張掩膜。 *多可搭載3臺片倉（Load port）。
