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  • 產(chǎn)品詳情
    • 產(chǎn)品名稱:日本大冢膜厚量測(cè)儀FE-300

    • 產(chǎn)品型號(hào): FE-300
    • 產(chǎn)品廠商:OTSUKA大塚電子
    • 產(chǎn)品價(jià)格:0
    • 折扣價(jià)格:0
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    簡(jiǎn)單介紹:
    日本大冢膜厚量測(cè)儀FE-300 日本大冢膜厚量測(cè)儀FE-300 日本大冢膜厚量測(cè)儀FE-300
    詳情介紹:

    膜厚量測(cè)儀 FE-300


    膜厚量測(cè)儀 FE-300


    產(chǎn)品信息

    特 長(zhǎng)

    薄膜到厚膜的測(cè)量范圍、UV~NIR光譜分析

    高性能的低價(jià)光學(xué)薄膜量測(cè)儀

    藉由**反射率光譜分析膜厚

    完整繼承FE-3000**機(jī)種90%的強(qiáng)大功能

    無(wú)復(fù)雜設(shè)定,操作簡(jiǎn)單,短時(shí)間內(nèi)即可上手

    線性*小平方法解析光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))

    測(cè)量項(xiàng)目

    • **反射率測(cè)量

    • 膜厚解析(10層)

    • 光學(xué)常數(shù)解析(n:折射率、k:消光系數(shù))

    產(chǎn)品規(guī)格

    樣品尺寸

    *大8寸晶圓(厚度5mm)

    測(cè)量時(shí)間

    0.1s ~ 10s以內(nèi)

    量測(cè)口徑

    約φ3mm

    通訊界面

    USB

    尺寸重量

    280(W)× 570(D)×350(H)mm,約24kg

    軟體功能

    標(biāo)準(zhǔn)功能

    波峰波谷解析、FFT解析、*適化法解析、*小二乘法解析

    選配功能

    材料分析軟件、薄膜模型解析、標(biāo)準(zhǔn)片解析

    ※1 請(qǐng)于本公公司聯(lián)系聯(lián)系我們
    ※2 對(duì)比VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品(100nm SiO2/Si),范圍值同保證書(shū)所記載
    ※3 測(cè)量VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品(100nm SiO2/Si)同一點(diǎn)位時(shí)之重復(fù)再現(xiàn)性。(擴(kuò)充系數(shù)2.1)

    應(yīng)用范圍

    半導(dǎo)體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)
    光學(xué)薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)

    測(cè)量范例

    • PET基板上的DLC膜

    • item_0005FE-300_sub001.gif
    • Si基板上的SiNx

      item_0005FE-300_sub002.gif
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