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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
通過提供具有數(shù)十毫秒級良好沉積效率
的脈沖，減少了原材料的損耗，提高了沉積效率。
詳情介紹：
概述
AL-1通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑，僅利用表面反應進行成膜，實現(xiàn)了高薄膜厚度控制和良好的階梯涂層性能。 薄膜厚度可按原子層順序控制。 此外，高縱橫比的孔內(nèi)壁具有良好的覆蓋性，可以均勻地沉積在薄膜厚度上。 在有機金屬材料中使用TMA和使用H_O作為反應劑的氧化鋁（AlOx）膜，在350°C的沉積溫度下具有7.5MV/cm的高擊穿強度，可作為下一代功率器件的柵極高壓膜應用。 ? 4 英寸晶圓 × 可同時形成三個晶圓。
特點
通過提供具有數(shù)十毫秒級良好沉積效率
的脈沖，減少了原材料的損耗，提高了沉積效率。
與清潔真空
反應室內(nèi)壁緊密接觸的內(nèi)壁加熱器可抑制反應室內(nèi)的溫度不均勻性，從而獲得清潔的真空。
無針孔的成膜
設(shè)計使多個原料氣體不混合在反應室內(nèi)，從而防止顆粒的產(chǎn)生，形成無針孔的膜。
應用示例
下一代功率器件的柵極氧化膜和鈍化膜
在三維結(jié)構(gòu)（如 MEMS）上均勻沉積
激光諧振器端面的沉積
碳納米管保護膜
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