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產(chǎn)品中心
產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：上海代理OTSUKA大塚無損非接觸膜厚儀

  • 產(chǎn)品型號：FE-300
  • 產(chǎn)品廠商：OTSUKA大塚電子
  • 產(chǎn)品價格：0
  • 折扣價格：0
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡單介紹：
塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司上海代理OTSUKA大塚無損非接觸膜厚儀FE-300薄膜厚度計，通過操作簡單的高精度光學干涉測量實現(xiàn)薄膜厚度測量。
詳情介紹：

塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司上海代理OTSUKA大塚無損非接觸膜厚儀FE-300薄膜厚度計，通過操作簡單的高精度光學干涉測量實現(xiàn)薄膜厚度測量。


OTSUKA大塚FE-300使用一體式外殼，在主機中存儲必要的設備，以實現(xiàn)穩(wěn)定的數(shù)據(jù)采集。

OTSUKA大塚FE-300特長

  • 支持從薄膜到厚膜的各種膜厚

  • 使用反射光譜的薄膜厚度分析

  • 實現(xiàn)非接觸、非破壞的***測量，同時緊湊且價格低廉

  • 簡單的條件設置和測量操作！任何人都可以輕松測量薄膜厚度

  • 可以通過峰谷法、頻率分析法、非線性***小二乘法、優(yōu)化法等進行多種薄膜厚度測量。

  • 通過非線性***小二乘膜厚分析算法可以進行光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計數(shù)）。

測量項目

反射率測量

  • 膜厚分析（10層）

  • 光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計數(shù)）

測量對象

  • 功能膜、塑料
    透明導電膜（ITO、銀納米線）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、粘合劑、保護膜、硬涂層、防指紋， ETC。

  • 半導體
    化合物半導體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍寶石等

  • 表面處理
    DLC涂層、防銹劑、防霧劑等

  • 光學材料
    濾光片、AR涂層等

  • FPD
    LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機膜、灌封膠）等

  • 其他
    硬盤驅(qū)動器、磁帶、建筑材料等。

測量原理

大冢電子使用光學干涉儀和我們自己的***分光光度計，實現(xiàn)了非接觸、無損、高速和***的薄膜厚度測量。光學干涉法是一種利用OTSUKA大塚FE-300分光光度計的光學系統(tǒng)獲得的反射率來確定光學膜厚的方法。以涂在金屬基材上的薄膜為例，如圖1所示，從目標樣品上方入射的光被薄膜（R1）表面反射。此外，通過薄膜的光在基板（金屬）和薄膜界面（R2）處反射。測量此時由于光程差引起的相移引起的光學干涉現(xiàn)象，并根據(jù)得到的反射光譜和折射率計算膜厚的方法稱為光學干涉法。分析方法有四種：峰谷法、頻率分析法、非線性***小二乘法和優(yōu)化法。

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