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SEN特殊光源中紫外線表面清洗的原理介紹
日期：2025-04-27 18:55
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摘要：
SEN特殊光源有低壓燈，高壓燈， UV清洗燈，UV固化燈，**燈，大型光清洗機(jī)，桌上型清洗機(jī)，手提式固化機(jī)，UV紫外線臭氧**機(jī)等各種紫外線臭氧產(chǎn)品。產(chǎn)品主要用于 液晶、觸屏、的玻璃基板清洗以及ITO清洗、樹脂固化、塑料、金屬、樹脂、汽車部件的光凈化等行業(yè)。
紫外線清洗主要原理為紫外線燈發(fā)出的 185nm波長和254nm波長具有很高的能量，高于大多數(shù)有機(jī)物的結(jié)合能量。由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?85nm波長的紫外線具有較強(qiáng)的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長后分解成例子，流利態(tài)院子，受激分子和中子等，這就是光敏作用?？諝庵械难醴肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后，會產(chǎn)生臭氧和氧氣，臭氧對254nm波長具有很強(qiáng)的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有極強(qiáng)的氧化性，可以將碳?xì)浠湘I切斷，生成水，二氧化碳等易揮發(fā)氣體，從被照射物表面飄逸出，徹底**物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。
紫外線清洗主要原理為紫外線燈發(fā)出的 185nm波長和254nm波長具有很高的能量，高于大多數(shù)有機(jī)物的結(jié)合能量。由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?85nm波長的紫外線具有較強(qiáng)的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長后分解成例子，流利態(tài)院子，受激分子和中子等，這就是光敏作用?？諝庵械难醴肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后，會產(chǎn)生臭氧和氧氣，臭氧對254nm波長具有很強(qiáng)的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有極強(qiáng)的氧化性，可以將碳?xì)浠湘I切斷，生成水，二氧化碳等易揮發(fā)氣體，從被照射物表面飄逸出，徹底**物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。
清洗法有干洗和濕洗兩種。干洗有UV臭氧清洗，等離子清洗，離子清洗等。濕洗有水洗，堿清洗，酸清洗，液體噴射清洗等。我們?nèi)粘Ｋ煜さ臐袷角逑从锌梢郧逑吹糨^大范圍污染的優(yōu)點(diǎn)。但是也會有清洗不掉的污染。同時(shí)由于清洗的溶劑會在被清洗物表面殘留，因此對于高精密世界來說也是個(gè)污染。
與此相反UV紫外線清洗雖然不能清洗掉大范圍的污染，卻可以清洗到各個(gè)角落的就是光洗凈技術(shù)（以下簡稱UV臭氧清洗）。在納米技術(shù)世界里，雖然看不到有機(jī)性污染，但是有機(jī)污染在表面形成膜（軟接著層）如果在這層膜上印刷的話，就會出現(xiàn)鮮度惡化以及針孔等障礙。UV臭氧清洗可以去除的污染有有機(jī)化合物以及含有油脂的污染等。
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