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  • 產(chǎn)品詳情
    • 產(chǎn)品名稱:UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-3

    • 產(chǎn)品型號(hào):
    • 產(chǎn)品廠商:ORC歐阿希
    • 產(chǎn)品價(jià)格:0
    • 折扣價(jià)格:0
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    簡(jiǎn)單介紹:
    UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-3UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-3UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-3 ?????塔瑪薩崎電子(蘇州)有限公司系 京都玉崎(日本)株式會(huì)社全資設(shè)立的中國(guó)子公司,自2014年成立以來(lái),迅速崛起,專業(yè)從事國(guó)內(nèi)貿(mào)易/國(guó)際貿(mào)易業(yè)務(wù),主要經(jīng)營(yíng)光學(xué)設(shè)備、電子計(jì)測(cè)儀器、科學(xué)儀器、機(jī)械加工設(shè)備、環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備、PC周邊用品、作業(yè)工具用
    詳情介紹:

    UV照射裝置


    UVドラィプロセッサー

    半導(dǎo)體製造プロセス、液晶基板製造プロセス等微細(xì)なパターンを形成する工程において、基板の表面に殘る有機(jī)物に、UVを照射して有機(jī)物汚染を非接觸で除去する裝置です?;濂ぅ昆岍`ジを與えずに表面の洗浄と改質(zhì)が出來(lái)ます。

    HMW-615N
     

    VUM-3073F

    ◆ 特 徴

    1. 基板にダメージが少なく、有機(jī)物を分解する能力の高い獨(dú)自の低圧UVランプを搭載しています。
    2. 基板を揺動(dòng)するモードを利用すると、基板にUV光量が均等に照射されます。
    3. 基板はあまり加熱されません。
    4. オゾンをカットする照射方式も、窒素ガスをパージする照射方式も適用できます。

    ◆ 仕 様

    型式 HMW-615N-3 HMW-615N-4 VUM-3073F
    使用ランプ 低圧UVランプ
    VUV-080/A-3.6U?5燈
    低圧UVランプ
    VUV-100/A-5.3U?7燈
    低圧UVランプ
    VUV-040/A-2.2U?4燈
    照射距離 25mm 25mm 15mm
    照射面積 300W X 300D 400W X 400D 200W X 200D
    照射時(shí)間 0~10min(可変) 0~99min59sec(可変)
    排気????除去 オゾン分解用フィルター使用
    外形寸法 750W X 700DX 1,435H 180kg 580W X 500DX 240H 25kg

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