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UV曝光裝置
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紫外可見光光度計
膜厚量測儀 FE-300
產(chǎn)品信息
特 長
薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析
高性能的低價光學(xué)薄膜量測儀
藉由**反射率光譜分析膜厚
完整繼承FE-3000**機種90%的強大功能
無復(fù)雜設(shè)定，操作簡單，短時間內(nèi)即可上手
線性*小平方法解析光學(xué)常數(shù)（n:折射率、k:消光系數(shù)）
測量項目
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**反射率測量
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膜厚解析（10層）
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光學(xué)常數(shù)解析（n：折射率、k：消光系數(shù)）
產(chǎn)品規(guī)格
|
樣品尺寸 |
*大8寸晶圓（厚度5mm） |
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|---|---|---|---|---|
|
測量時間 |
0.1s ~ 10s以內(nèi) |
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量測口徑 |
約φ3mm |
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通訊界面 |
USB |
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尺寸重量 |
280（W）× 570（D）×350（H）mm，約24kg |
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軟體功能 |
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標(biāo)準(zhǔn)功能 |
波峰波谷解析、FFT解析、*適化法解析、*小二乘法解析 |
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選配功能 |
材料分析軟件、薄膜模型解析、標(biāo)準(zhǔn)片解析 |
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※1 請于本公公司聯(lián)系聯(lián)系我們
※2 對比VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品（100nm SiO2/Si），范圍值同保證書所記載
※3 測量VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品（100nm SiO2/Si）同一點位時之重復(fù)再現(xiàn)性。（擴充系數(shù)2.1）
應(yīng)用范圍
半導(dǎo)體晶圓膜（光阻、SOI、SiO2等）
光學(xué)薄膜（OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等）
測量范例
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PET基板上的DLC膜
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Si基板上的SiNx
2.如有必要,請您留下您的詳細聯(lián)系方式!
