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產(chǎn)品中心
產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:日本大冢膜厚量測儀FE-300

  • 產(chǎn)品型號: FE-300
  • 產(chǎn)品廠商:OTSUKA大塚電子
  • 產(chǎn)品價格:0
  • 折扣價格:0
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
日本大冢膜厚量測儀FE-300 日本大冢膜厚量測儀FE-300 日本大冢膜厚量測儀FE-300
詳情介紹:

膜厚量測儀 FE-300


膜厚量測儀 FE-300


產(chǎn)品信息

特 長

薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析

高性能的低價光學薄膜量測儀

藉由**反射率光譜分析膜厚

完整繼承FE-3000**機種90%的強大功能

無復雜設定,操作簡單,短時間內(nèi)即可上手

線性*小平方法解析光學常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))

測量項目

  • **反射率測量

  • 膜厚解析(10層)

  • 光學常數(shù)解析(n:折射率、k:消光系數(shù))

產(chǎn)品規(guī)格

樣品尺寸

*大8寸晶圓(厚度5mm)

測量時間

0.1s ~ 10s以內(nèi)

量測口徑

約φ3mm

通訊界面

USB

尺寸重量

280(W)× 570(D)×350(H)mm,約24kg

軟體功能

標準功能

波峰波谷解析、FFT解析、*適化法解析、*小二乘法解析

選配功能

材料分析軟件、薄膜模型解析、標準片解析

※1 請于本公公司聯(lián)系聯(lián)系我們
※2 對比VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si),范圍值同保證書所記載
※3 測量VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si)同一點位時之重復再現(xiàn)性。(擴充系數(shù)2.1)

應用范圍

半導體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)
光學薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)

測量范例

  • PET基板上的DLC膜

  • item_0005FE-300_sub001.gif
  • Si基板上的SiNx

    item_0005FE-300_sub002.gif
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