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產品詳情
簡單介紹：
主要特長
直立配置掩膜臺/基板臺。不需補正由掩膜/掩膜臺/基板臺的自身重量而造成的彎曲變形,構造簡單，安定性高。
采用新型光學系統,使影響圖形轉印精度的傾斜角降低至過去的一半以下(與本公司裝置相比),可實現更高精度的圖形轉印。
完全分離本體與光源部。光源的熱量傳遞不到本體,改善了本體部的熱量分布水準。
為了防止因掩膜及玻璃基板的溫度差造成的伸縮變形,可選擇基板臺溫度控制系統及掩膜冷卻系統。(選購項)
*大基板尺寸為1,200mm×1,400mm。通過獨自的光學系統實現了均勻的一次性曝光。
能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫
詳情介紹：
主要規(guī)格
| MA-6701ML | MA-6801ML | MA-6131ML | ||
|---|---|---|---|---|
| 基板尺寸 | 550 x 650mm | 650 x 750mm | 1100 x 1300mm | |
| 掩膜尺寸 | 620 x 720 x t8.0mm | 700 x 800 x t8.0mm | 1200 x 1400 x t4.8mm | |
| 對位 | 非接觸預對位～自動對位 | |||
| 間隙 | 擁有傳感性能 | |||
| 光源 | 超高壓水銀燈：8kW | 超高壓水銀燈：8kW | 超高壓水銀燈：18kW | |
| 外觀尺寸及重量 | 本體尺寸 | W3500 x D2720 x H2700 mm | W4150 x D3200 x H2900 mm | W11300 x D7060 x H3350 mm |
| 本體重量 | 3500kg | 3800kg | 12700kg | |
| 光源重量 | 800kg | 1150kg | 4200kg | |
| 選購項 | 掩膜冷卻、基板臺溫度調節(jié)、溫控機房、特殊對位照明 | |||
| 用途 | 觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C－STN、電子紙等 | |||
※基板尺寸和水銀燈瓦數及特殊規(guī)格可商洽
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