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  • 產(chǎn)品詳情
    • 產(chǎn)品名稱:上海代理OTSUKA大塚無損非接觸膜厚儀

    • 產(chǎn)品型號(hào):FE-300
    • 產(chǎn)品廠商:OTSUKA大塚電子
    • 產(chǎn)品價(jià)格:0
    • 折扣價(jià)格:0
    • 產(chǎn)品文檔:
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    簡單介紹:
    塔瑪薩崎電子(蘇州)有限公司上海代理OTSUKA大塚無損非接觸膜厚儀FE-300薄膜厚度計(jì),通過操作簡單的高精度光學(xué)干涉測(cè)量實(shí)現(xiàn)薄膜厚度測(cè)量。
    詳情介紹:

    塔瑪薩崎電子(蘇州)有限公司上海代理OTSUKA大塚無損非接觸膜厚儀FE-300薄膜厚度計(jì),通過操作簡單的高精度光學(xué)干涉測(cè)量實(shí)現(xiàn)薄膜厚度測(cè)量。


    OTSUKA大塚FE-300使用一體式外殼,在主機(jī)中存儲(chǔ)必要的設(shè)備,以實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的數(shù)據(jù)采集。

    OTSUKA大塚FE-300

    • 支持從薄膜到厚膜的各種膜厚

    • 使用反射光譜的薄膜厚度分析

    • 實(shí)現(xiàn)非接觸、非破壞的***測(cè)量,同時(shí)緊湊且價(jià)格低廉

    • 簡單的條件設(shè)置和測(cè)量操作!任何人都可以輕松測(cè)量薄膜厚度

    • 可以通過峰谷法、頻率分析法、非線性***小二乘法、優(yōu)化法等進(jìn)行多種薄膜厚度測(cè)量。

    • 通過非線性***小二乘膜厚分析算法可以進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析(n:折射率,k:消光計(jì)數(shù))。

    測(cè)量項(xiàng)目

    反射率測(cè)量

    • 膜厚分析(10層)

    • 光學(xué)常數(shù)分析(n:折射率,k:消光計(jì)數(shù))

    測(cè)量對(duì)象

    • 功能膜、塑料
      透明導(dǎo)電膜(ITO、銀納米線)、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、粘合劑、保護(hù)膜、硬涂層、防指紋, ETC。

    • 半導(dǎo)體
      化合物半導(dǎo)體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍(lán)寶石等

    • 表面處理
      DLC涂層、防銹劑、防霧劑等

    • 光學(xué)材料
      濾光片、AR涂層等

    • FPD
      LCD(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有機(jī)膜、灌封膠)等

    • 其他
      硬盤驅(qū)動(dòng)器、磁帶、建筑材料等。

    測(cè)量原理

    大冢電子使用光學(xué)干涉儀和我們自己的***分光光度計(jì),實(shí)現(xiàn)了非接觸、無損、高速和***的薄膜厚度測(cè)量。光學(xué)干涉法是一種利用OTSUKA大塚FE-300分光光度計(jì)的光學(xué)系統(tǒng)獲得的反射率來確定光學(xué)膜厚的方法。以涂在金屬基材上的薄膜為例,如圖1所示,從目標(biāo)樣品上方入射的光被薄膜(R1)表面反射。此外,通過薄膜的光在基板(金屬)和薄膜界面(R2)處反射。測(cè)量此時(shí)由于光程差引起的相移引起的光學(xué)干涉現(xiàn)象,并根據(jù)得到的反射光譜和折射率計(jì)算膜厚的方法稱為光學(xué)干涉法。分析方法有四種:峰谷法、頻率分析法、非線性***小二乘法和優(yōu)化法。

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