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UV光洗凈
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UV曝光裝置
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紫外可見(jiàn)光光度計(jì)
華東總代HORIBA XploRA Nano原子力拉曼聯(lián)用系統(tǒng)
多樣品分析平臺(tái)
宏觀、微觀和納米尺度的測(cè)量可以在同一個(gè)平臺(tái)上進(jìn)行
簡(jiǎn)單易用
全自動(dòng)操作,在幾分鐘內(nèi)即可開始測(cè)量,而不是幾小時(shí)!
真正的共聚焦
高空間分辨率,自動(dòng)樣品臺(tái),全顯微鏡可視化。
高收集效率
頂部和側(cè)向拉曼光譜檢測(cè)都可以獲得高分辨和高通量測(cè)量同區(qū)域和針尖增強(qiáng)光譜測(cè)量(TERS和TEPL)
高光譜分辨率
高光譜分辨能力,多光柵自動(dòng)切換,寬光譜范圍的拉曼和光致發(fā)光分析。
高空間分辨率
針尖增強(qiáng)的納米級(jí)光譜分辨率(優(yōu)于10nm)
豐富的光學(xué)光譜(拉曼和光致發(fā)光)
多技術(shù)/多環(huán)境
結(jié)合TERS/TEPL化學(xué)成像的多模式SPM技術(shù)包括AFM、導(dǎo)電和電學(xué)模式(cAFM、KPFM)、STM、液池和電化學(xué)環(huán)境。一個(gè)工作站和強(qiáng)大的軟件即可對(duì)兩臺(tái)儀器進(jìn)行完全控制,SPM和光譜儀可以同時(shí)或獨(dú)立操作。
堅(jiān)固性/穩(wěn)定性
高共振頻率AFM掃描器,遠(yuǎn)離噪音干擾!高性能表現(xiàn),無(wú)需主動(dòng)隔振系統(tǒng)。
martSPM掃描器和基座
閉環(huán)平板掃描器: 100 μm x 100 μm x 15 μm (±10 %)
掃描器非線性:XY≤0.05 %; Z≤0.05 %
噪聲水平:XY≤0.1 nm RMS(200 Hz帶寬,電容傳感器打開);XY≤0.02 nm RMS(100 Hz帶寬,電容傳感器關(guān)閉);Z<0.04 nm RMS (1000 Hz帶寬,電容傳感器開)
高頻掃描器:XY≥7 kHz; Z≥ 15 kHz
X, Y, Z自動(dòng)趨近:XYZ數(shù)字閉環(huán)控制,Z向馬達(dá)趨近距離18mm
樣品尺寸:40 mm x 50 mm x 15 mm
樣品定位:自動(dòng)樣品臺(tái)范圍:5 mm x 5 mm
定位精度:1μm
AFM測(cè)試頭
激光波長(zhǎng):1300nm(光譜檢測(cè)器無(wú)干擾)
激光準(zhǔn)直:全自動(dòng)懸臂—光電二極管激光準(zhǔn)直
探針通道:為外部操作和探針提供自由通道
SPM測(cè)量模式
標(biāo)準(zhǔn)模式:接觸模式、半接觸模式、非接觸模式、相位成像模式、側(cè)向力模式(LFM)、力調(diào)制模式、磁力顯微鏡模式(MFM)、開爾文探針模式(表面電勢(shì),SKM,KPFM)、掃描電容模式、靜電力顯微鏡模式(EFM)、力曲線測(cè)量、壓電響應(yīng)模式(PFM)、納米蝕刻、納米操縱
升級(jí)模式:溶液環(huán)境接觸模式、溶液環(huán)境半接觸模式、導(dǎo)電力顯微鏡模式、STM模式、光電流成像模式、伏安特性曲線測(cè)量等
光譜模式
共聚焦拉曼、熒光和光致發(fā)光光譜和成像
針尖增強(qiáng)拉曼光譜(AFM,STM等)
針尖增強(qiáng)熒光
近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡和光譜(NSOM/SNOM)
導(dǎo)電力AFM(選購(gòu))
電流范圍:100fA~10μA;三檔量程自動(dòng)切換(1 nA, 100 nA 和 10 μA)
光路耦合通道
頂部和側(cè)向能夠同時(shí)使用消色差物鏡:從頂部或側(cè)向*高可用100X,NA0.7物鏡;可同時(shí)使用20倍和100倍
長(zhǎng)期光譜激光穩(wěn)定對(duì)準(zhǔn)的閉環(huán)壓電物鏡掃描器:20μm x 20μm x 15μm;
分辨率:1nm
光譜儀
全自動(dòng)緊湊型XploRA Plus顯微光譜儀,可獨(dú)立使用顯微拉曼光譜儀
波長(zhǎng)范圍:75cm-1至4000 cm-1
光柵:四光柵自動(dòng)切換(600, 1200, 1800 and 2400 g/mm)
自動(dòng)化:全自動(dòng),軟件控制操作
檢測(cè)器
全光譜范圍CCD和EMCCD檢測(cè)器。
光源
典型波長(zhǎng):532nm、638nm、785nm;其它波長(zhǎng)可根據(jù)需求提供
自動(dòng)化:全自動(dòng),軟件控制操作
軟件
集成軟件包,包括全功能SPM、光譜儀和數(shù)據(jù)采集控制、光譜和SPM數(shù)據(jù)分析和處理套件,包括光譜擬合、去卷積和濾波,可選模塊包括單變量和多變量分析套件(PCA、MCR、HCA、DCA),顆粒檢測(cè)和光譜搜索功能。
2.如有必要,請(qǐng)您留下您的詳細(xì)聯(lián)系方式!