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頭部集成了薄膜厚度測量所需功能 通過顯微光譜法測量高精度**反射率（多層膜厚度，光學(xué)常數(shù)） 1點1秒高速測量 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外至近紅外） 區(qū)域傳感器的**機(jī)制 易于分析向?qū)В鯇W(xué)者也能夠進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析 獨立測量頭對應(yīng)各種inline客制化需求 支持各種自定義 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Ots
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ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測系統(tǒng)ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測系統(tǒng)ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測系統(tǒng) 此設(shè)備可測量濃度低的溶液～濃度高的溶液的ZETA電位?粒徑及分子量。 粒徑測量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.00001%～40%）。實測電氣滲透流，高精度的ZETA電位測量，*小容量是130μL～的一次性cell
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彩色濾光片分光特性測量裝置OTSUKA大冢LCF SERIES 彩色濾光片分光特性測量裝置OTSUKA大冢LCF SERIES 彩色濾光片分光特性測量裝置OTSUKA大冢LCF SERIES
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OTSUKA大冢液晶層間隙量測設(shè)備RETS series OTSUKA大冢液晶層間隙量測設(shè)備RETS series OTSUKA大冢液晶層間隙量測設(shè)備RETS series
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日本OTSUKA大冢相位差膜?光學(xué)材料檢查設(shè)備RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜?光學(xué)材料檢查設(shè)備RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜?光學(xué)材料檢查設(shè)備RETS-100
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日本大冢分光配光測量系統(tǒng)GP-4000 日本大冢分光配光測量系統(tǒng)GP-4000 日本大冢分光配光測量系統(tǒng)GP-4000
