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主要特長 利用本公司開創(chuàng)的高速圖像處理技術(shù), 實現(xiàn)了Wafer與掩膜的高精度對位。 裝載機側(cè)和卸載機側(cè)*多可設(shè)置兩個籃具（選購項）。 備有冷卻機構(gòu)，可進行基板臺與掩膜的溫度管理（選購項）。 搭載本公司開創(chuàng)的鏡面光學(xué)系統(tǒng)爆光燈房（LAMP HOUSE）。從而實現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。 搭載非接觸預(yù)對位系統(tǒng)（PREALIGNER）。從而實現(xiàn)了高精度進給且保證基板不受任何損傷。 搭載有自動掩膜更換機。并可支持掩膜存放庫。
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主要特長 采用獨自的平行調(diào)整機構(gòu),能夠高精度地設(shè)定掩膜與Wafer間的近接間隙。 利用獨自的高速圖像處理技術(shù),實現(xiàn)高精度的對位。 利用圖像處理技術(shù),使預(yù)對位可對應(yīng)薄型基板或翹曲基板及水晶等易碎Wafer(選購項)。 利用獨自的接觸壓力精密控制機構(gòu),能夠使Wafer與掩膜高精度地接觸。 通過Wafer的背面真空吸著方式,實現(xiàn)高速度和高精度以及穩(wěn)定的自動搬送
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產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置 簡練設(shè)計的手動式整面單次曝光裝置。 主要特長 對應(yīng)玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)。 可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。 對應(yīng)*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學(xué)系統(tǒng)。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學(xué)鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等
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產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置 簡練設(shè)計的手動式整面單次曝光裝置。 主要特長 對應(yīng)玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)。 可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。 對應(yīng)*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學(xué)系統(tǒng)。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學(xué)鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等。
