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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
我們的 MCPD 系列采用柔性光纖，可集成到從原位到內(nèi)聯(lián)的各種位置和應(yīng)用。
由于測(cè)量原理采用光譜干涉系統(tǒng)，因此在實(shí)現(xiàn)高測(cè)量可重復(fù)性的同時(shí)，還支持多層厚度測(cè)量。 采用專有算法，可實(shí)現(xiàn)高速實(shí)時(shí)監(jiān)控。
詳情介紹：
特點(diǎn)
- 膜厚測(cè)定范圍65nm~92μm（SiO2轉(zhuǎn)換）
- *短曝光時(shí)間1ms~ ※根據(jù)規(guī)格
- 靈活的光纖光學(xué)系統(tǒng)，易于集成到半導(dǎo)體工藝裝置中
- 從頂部進(jìn)行遠(yuǎn)程控制
- *適合在拋光過程中檢測(cè)薄膜厚度端點(diǎn)
基本配置
.png)
設(shè)備嵌入式圖像
測(cè)量示例
CMP 流程中實(shí)時(shí)監(jiān)控的原位端點(diǎn)檢測(cè)
對(duì)象：布線工序中CMP研磨對(duì)象的各種薄膜
規(guī)格
MCPD-9800 規(guī)格
| 類型表達(dá)式 | MCPD-9800 | ||||||||
| 2285C | 3095C | 3683C | 311C | 916C | |||||
| 測(cè)量波長范圍（nm） | 220～850 | 300～950 | 360～830 | 360～1100 | 900～1600 | ||||
| 薄膜厚度范圍* | 65nm～35μm | 65nm～50μm | 65nm～45μm | 65nm～49μm | 180nm～92μm | ||||
| 薄膜厚度/反射/透射/延遲 | 〇 | ||||||||
| 顏色測(cè)量 | 〇 | × | |||||||
| 掃描時(shí)間 | 5ms～20s | 1ms～10s | |||||||
| 點(diǎn)直徑 | φ1.2mm | ||||||||
| 纖維長度 | 1m~ 長度需要咨詢 | ||||||||
※膜厚值n=1.5換算。 取決于規(guī)格
MCPD-6800 規(guī)格
| 類型表達(dá)式 | MCPD-6800 | |||
| 2285C | 3095C | 3683C | 3610C | |
| 測(cè)量波長范圍（nm） | 220～850 | 300～950 | 360～830 | 360～1000 |
| 薄膜厚度范圍* | 65nm～35μm | 65nm～50μm | 65nm～45μm | 65nm～49μm |
| 薄膜厚度/反射/透射/延遲/顏色測(cè)量 | 〇 | |||
| 掃描時(shí)間 | 16ms～65s | |||
| 點(diǎn)直徑 | φ1.2mm | |||
| 纖維長度 | 1m~ 長度需要咨詢 | |||
※膜厚值n=1.5換算。 取決于規(guī)格
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