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Otsuka大塚電子線掃描膜厚度計離線型 該設備可離線輕松進行表面厚度不均勻性檢測,用于薄膜等的研發(fā)和質量控制的抽查。 整個表面可以快速、高精度地測量。
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Otsuka大塚電子在線膜厚測量厚度計塔瑪薩崎電子代理銷售 該裝置可以測量薄膜的整個寬度和總長度,用于在線薄膜生產現場。 通過將新開發(fā)的高精度薄膜厚度計算技術與專有光譜干涉方法相結合,可以在每 0.01 秒的測量間隔內測量 500mm 寬度(使用一臺)的薄膜厚度。
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Otsuka大塚電子 RETS延遲測量設備 它是一種延遲測量設備,適用于所有薄膜,包括 OLED 偏振板、層壓緩速膜和帶 IPS 液晶緩速膜的偏振板。 實現超高Re.60000nm的高速、高精度測量。 薄膜的層壓狀態(tài)可以通過“無剝離、無損”進行測量。 此外,它還配備了簡單的軟件和校正功能,通過重新放置樣品來糾正偏差,從而輕松實現高精度測量。
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塔瑪薩崎電子(蘇州)有限公司江蘇代理大塚電子 OPTM-A1膜厚計 OPTM(Optim)是一種利用顯微分光在微區(qū)域進行**反射率測量,可實現高精度薄膜厚度和光學常數分析的裝置。 涂層膜的厚度和多層膜(如各種薄膜、晶圓和光學材料)可以無損或非接觸式測量。 測量時間可以高速測量 1 秒/點。 此外,它配備了一個軟件,即使是初學者可以很容易地分析光學常數。
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塔瑪薩崎代理Otsuka大塚多通道光譜儀 MCPD-6800 MCPD-6800 是光譜測量和分析的基本系統。 即時測量光譜,自由組裝測量光學系統和多種選項,可根據各種目的進行系統升級。 測量波長范圍有四種類型可供選擇。
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多功能多通道光譜探測器,支持從紫外到近紅外區(qū)域。 光譜測量可在 5 毫秒內進行。 標準儀器的光纖支持各種測量系統,無需識別樣品類型。 除了顯微分光、光源發(fā)射、透射和反射測量外,它還與軟件相結合,支持物體顏色評估和薄膜厚度測量。
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它是一種延遲測量設備,適用于所有薄膜,包括 OLED 偏振板、層壓緩速膜和帶 IPS 液晶緩速膜的偏振板。 實現超高Re.60000nm的高速、高精度測量。 薄膜的層壓狀態(tài)可以通過“無剝離、無損”進行測量。 此外,它還配備了簡單的軟件和校正功能,通過重新放置樣品來糾正偏差,從而輕松實現高精度測量。
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特點 使用靜態(tài)光散射法測量優(yōu)良分子量、慣性半徑和第 二維系數是可能的。 可以對 Zimm 繪圖、伯利圖、Zimm 平方根圖、單濃度圖和 Debye 圖進行各種分析。 系統將詢問您如何安排您的會議。 可選的桿單元支架可實現光纖材料(散裝)的優(yōu)良散射強度測量。
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使用動態(tài)光散射方法測量顆粒大小和顆粒大小分布(顆粒大小和顆粒大小分布)是可能的。 您可以選擇 He-Ne 激光、固態(tài)激光和雙激光規(guī)格。 相關計高達 4096ch,可實現多模式分析,如聚合物濃縮溶液。 與可選的凝膠旋轉單元結合使用時,可以分析凝膠狀態(tài)。
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特點 使用動態(tài)光散射法測量顆粒大小和顆粒大小分布(顆粒大小和顆粒大小分布),并使用靜態(tài)光散射方法測量優(yōu)良分子量、慣性半徑和第 二維真實系數。 您可以選擇 He-Ne 激光、固態(tài)激光和雙激光規(guī)格。 采用浸入式細胞光學系統,可以高精度地測量微弱散射的納米級粒子。 相關計高達 4096ch,可實現多模式分析,如聚合物濃縮溶液。 與可選的凝膠旋轉單元結合使用時,可以分析凝膠狀態(tài)。
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散射角度為0.33~45°的測量*短為10msec※可以測量 評估亞微米至數百微米的結構 使用專用電池測量溶液樣品 在軟式 Hv 散射和 Vv 散射測量中輕松切換 桌面類型,可安裝在實驗室中 ※不使用HDR功能時
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一臺儀器可輕松連續(xù)測量 5 個樣本,無需自動采樣器即可實現 多個樣本的連續(xù)測量,也可以通過改變每個樣本的條件進行測量。 支持從稀釋到厚系統 標準測量時間 1 分鐘的高速測量 自動調整從厚系統到稀薄樣品的*佳測量位置,實現約 1 分鐘的高速測量 簡單易懂的測量功能(只需單擊一下即可 開始測量),無需復雜的操作 內置非浸沒式細胞塊,無分包的無孔, 每個細胞都是獨立的,因此無需擔心不成問題。 配備 溫度梯度功能,可輕松設置溫度