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日本MIKASA涂布機株式會社

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發(fā)布時間：2023-11-17 17:05 點擊次數(shù)：398 次
日本MIKASA|涂布機、勻膠機、旋轉(zhuǎn)涂膜儀|中國代理店塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，

發(fā)布時間：2023-10-26 17:10 點擊次數(shù)：296 次
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發(fā)布時間：2023-05-30 08:56 點擊次數(shù)：326 次
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發(fā)布時間：2023-04-19 15:30 點擊次數(shù)：107 次
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發(fā)布時間：2023-04-19 15:03 點擊次數(shù)：133 次
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發(fā)布時間：2023-04-19 14:31 點擊次數(shù)：165 次
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發(fā)布時間：2023-02-10 16:36 點擊次數(shù)：247 次

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